Два оптических тракта для одновременного использования лазеров на разных длинах волн в PLD процессе

5-осевая образцовая платформа для позиционирования образцов, оснащенная лазерной системой нагрева образца для использования с RHEED

Автоматизированный процесс нагрева вакуумной камеры; встроенные датчики температуры

Возможность удаленного управления и дистанционного контроля

Предварительная подготовки и отжиг подложек перед процессом

Делитель лазерного пучка и непрерывное измерение энергии лазера с возможностью автоматической юстировки энергии

Все механические компоненты оборудованы шаговыми двигателями или пневматическими приводами

Встроенный квадрупольный масс-спектрометр

Дублирующий контроль: все окна оснащены CCD камерами

Мультикатодная система одновременного PLD и магнетронного осаждения DC/RF

Встроенная RHEED-система с программным управлением наклона/вращения образца в режиме реального времени для визуализации кристаллической структуры синтезированной пленки

Автоматическая загрузка образцов

Автоматически управляемая система откачки и камера с контролем давления

Возможность запуска заранее заданных протоколов осаждения

Предельное давление до 1*10-11 мбар

Типы лазеров для процесса PLD: KrF, Nd: YAG и пр.

Максимальное количество держателей для PLD мишеней - 6

Диаметр подложки - до 4 дюймов

Тип нагрева подложки: сопротивительный или лазерный

Возможность работы в реактивных газах при давлении до 10 мбар при T подложки ≤ 1200C

5-осевая образцовая платформа для RHEED и наклонного напыления

Количество катодов DC/RF магнетрона - до 8

Диаметр катода магнетрона - до 4 дюймов

Равномерность покрытия +- 2,5%